40纳米
40纳米
技术简介
中芯国际是中国大陆第一家提供40纳米技术的晶圆厂。40纳米标准逻辑制程提供低漏电(LL)器件平台，核心组件电压1.1V，涵盖三种不同阈值电压，以及输入/输出组件 2.5V电压(超载 3.3V，低载 1.8V)以满足不同的设计要求。40纳米逻辑制程结合了先进的浸入式光刻技术，应力技术，超浅结技术以及低介电常数介质。
特点
工艺组件选择
|
标准工艺组件选择 |
40纳米低漏电器件(1.1V) | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
||||||||||
|
|
||||||||||
|
|
应用产品
中芯国际40纳米标准逻辑制程实现了高性能和低功耗的完美融合，适用于场景广泛，如：手机基带及应用处理器，平板电脑多媒体应用处理器，数字电视，机顶盒，游戏及其他无线互联应用，正在研发的可工作在0.9v电压下的40纳米超低功耗产品更是为IoT应用场景量身打造。
-
手机基带
及应用处理器 -
平板电脑多媒体
应用处理器 -
数字电视
-
机顶盒
-
游戏及其他
无线互联应用
其他工艺技术
